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    分子束外延束源炉

    • 高温束源炉-HTEZ
    高温束源炉-HTEZ

    高温束源炉-HTEZ

    • 产品型号:HTEZ
    • 产品描述:高温束源炉-HTEZ可加热至1900℃。HTEZ的加热效率高,温度测量控制重复性好,并且可以精确调节。钽灯丝的优化设计确保了加热稳定性,即使在极限温度下也可以具有很长的使用寿命。
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    高温束源炉-HTEZ用于低蒸汽压的元素和化合物材料薄膜沉积,例如Fe,Cr,Ni,Co,Au,Ge等材料,以及表面科学分析和磁性或氧化物薄膜沉积。


    产品特点:

    安装法兰:DN40CF / DN63CF

    真空内长度:220~400 mm

    加热灯丝类型:钽丝加热

    热偶:W5%Re / W26%Re( C)

    加热温度:最高1900(根据所选坩埚材料)

    除气温度:最高1900(根据所选坩埚材料)

    外部烘烤温度:250

    冷却方式:集成水冷 / 独立冷屏

    坩埚容量:1.5 / 10 / 35 cc

    坩埚材料:Al2O3BeOTaW(根据要求其他材料)

    选配:挡板


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