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    桌面式模块化真空镀膜技术(PVD)

    • 桌面式模块化真空镀膜系统
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    桌面式模块化真空镀膜系统

    • 模块化真空腔体设计
    • 兼容磁控溅射,电子束蒸发,热蒸发
    • 占用实验室空间小
    • 多种技术组合,多变
    • 产品描述:桌面式真空镀膜系统,模块化镀膜系统,桌面式磁控溅射系统,桌面式热蒸发系统,桌面式电子束蒸发系统。
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    HEX桌面式薄膜溅射沉积系统

    Korvus Technology Ltd. 致力于开发制造模块化小型薄膜制备镀膜,特别适用于科研训练和实验室基本镀膜应用,例如,金属电极制备,新型薄膜开发等;


    主要特点:

    - 模块化设计,可根据用户应用需求更换,真空腔体也可以模块化组合

    - 兼容磁控溅射,电子束蒸发,热蒸发多种沉积技术

    - 适用于科研训练和新型薄膜沉积

    - 可与手套箱集成

    - 占地面积小


    主要配置和性能指标:

    1.  快速拆换的六块独立板面形成的腔室 (盲板、可视窗口、溅射源窗口、QCM窗口)

    2.  系统节约实验室空间,占地约1m2,腔体尺寸:65 cm * 60 cm * 70 cm,重约50 kg

    3.  快速 (20分钟内达到 5*10-6Torr)

    4.  4英寸及以下尺寸样品台 (可选配 2-20 rpm旋转、500℃加热,水冷、直流偏压)

    5.  四种溅射源:磁控溅射;电子束蒸发源 、热蒸发、有机物蒸发源

    6.  可集成膜厚测量功能,手套箱系统,以及各种定制功能

    7.  自动操作软件控制(选配)

    8.  可配备快速进样腔(选配)

    9.  原位监测选件:热成像,原位等离子体谱,石英晶振


    两种型号可选:

    HEX

    HEX-L

    最大样品尺寸 4英寸 6英寸
    分子泵

    80 l/s

    300 l/s
    分子泵选配 300 l/s 700 l/s
    侧面板数量 6 6
    最多沉积源数量

    3(算上QCM)

    6
    兼容沉积源 磁控溅射,电子束蒸发,热蒸发 磁控溅射,电子束蒸发,热蒸发


    应用领域:

    化学催化

    电极薄膜制备

    金属半导体薄膜制备

    磁性薄膜制备

    微纳米器件

    光学器件


    如有设备需求,欢迎随时联系我们

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